Conclue le 30 novembre dernier à Atlanta, une convention acte la création, d’ici à mi-2013, de l’Institut Lafayette sur Metz-Technopôle.

Issue de 20 ans de coopération entre le Georgia Institute of Technology d’Atlanta et son antenne messine Georgia Tech-Lorraine, cette plate-forme de 2 000 m2 dédiée à la filière optoélectronique et aux nanotechnologies mettra ses équipements au service des laboratoires, entreprises innovantes et des start-up technologiques. Parmi les premières
applications figurent la mise au point de nouvelles diodes, l’optimisation des panneaux photovoltaïques ou encore le développement d’écrans électroniques flexibles.

Nous nous appuierons sur l’expérience de Georgia Tech-Lorraine et sur le savoir-faire du Georgia Institute of Technology d’Atlanta, qui figure parmi les 10 premières universités américaines en matières de brevets, pour instaurer sur Metz-Technopôle un écosystème favorable à la création et à l’innovation.

Yves Berthelot, Président du futur institut

Le Conseil Régional de Lorraine, le Conseil Général de la Moselle, Metz Métropole, les fonds européens et l’État contribuent à ce projet d’un montant global de 23 millions d’euros.

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